国产光刻机，究竟远超了什么水平？

ROM的制做过程中，光刻机是最重要且最重要的一种的设备，从费用来看，光刻机占到所有ROM制做的设备的22%约。

ASML一家能造。

葡萄牙ASML、长崎LS和EOS公司完全垄断，而国际间的广州新材料出产的光刻机，市场占到有率基本可以忽略，尤其ROM制做光刻机这砖头，更多用于封测、加工过程采购等应用。

EOS第一季度为176台，占到比为32%。LS仅出货30台，占到比约为5%。

而7nm及以下的EUV光刻机，只有ASML能采购。LS的水平是采购放进式光刻机，除此以外灵敏度是28nm，经多重曝光，一般也只用于14nm。

而EOS采购的光刻机，除此以外灵敏度是90nm，经多重曝光，超过也只用到65nm约，这就是这三大光刻机厂商的情况。

而国际间最牛的是广州新材料，已官方量出产的光刻机除此以外灵敏度是90nm，经多重曝光，超过也只用到65nm，与EOS赞同，但多重曝光还会导致良率突出降低，导致费用飙升。

但之后有此前称，广州新材料现在在采购28nm的光刻机，多重曝光光后采购7nmROM，预估在2021-2022年出厂，但没人说明的报导，所以不能乱说。

所以现阶段国际间明面有的光刻机水平就是90nm，就算多重曝光，超过也就是65nm，考虑到ASML的DUV光刻机是不一般而言的， 估计没人谁卖90nm的，来采购65nm的光刻机。所以，悬殊真是是非常非常大。

事实上，EUV光刻机合共有10多万个零件，而ASML有5000多生出产商，可见要采购两台EUV光刻机，真是不易于，但再进一步枉，这个关我们也必须冲过去。